当社グループの技術は、光応用技術をコアに、エレクトロニクス、精密機構、及び画像処理などの周辺技術を融合させたオプトメカトロニクスと呼ばれる複合技術で、代表的な製品である半導体マスク欠陥検査装置やマスクブランクス欠陥検査/レビュー装置、レーザー顕微鏡、及びEUVマスク欠陥検査装置ほか、すべての製品開発に活用されています。

　新しい製品の開発にあたっては、既に製品を納入している多くのお客さまや各種研究開発機関へのサービス・サポートを通じて、お客さまの顕在化した要望のみならず、潜在的なニーズも的確につかみ、独創的な視点と技術で素早くソリューションをご提供するように努めております。また、顕微鏡の営業活動などを通じて幅広い業界、市場を調査し、新しいマーケットやアプリケーションを探し出し、それぞれ固有のニーズに合致した新製品を生み出すことも同時に心がけております。

　当社グループは、光学技術を追求する過程で、独自のコア技術を確立してまいりました。共焦点光学系、DUV^(注)光学系、EUV^(注)光学系、及び光干渉計技術などの光学技術を進化させ、高度な周辺技術との融合によって特徴ある製品を生み出しています。また、高精度高速ステージ開発のための精密機構技術、あるいは欠陥検出の画像処理技術などを継続的に深化させ、近年ではAI技術を応用した自動欠陥分類の開発を進めるなど、お客さまのニーズに対してタイムリーにソリューションを提供できる研究・製品開発を進めています。

　(注) DUV：Deep Ultraviolet、遠紫外線

　　　 EUV：Extreme Ultraviolet、極端紫外線

　当連結会計年度における研究開発の成果として発売された新製品は次のとおりです。

「EUV マスクブランクス欠陥検査/レビュー装置　ABICS E320シリーズ」

　「E320」は、新たに設計した高倍率シュバルツシルト光学系の採用と照明光学系の最適化により、従来機の「E120」と比べて、EUVマスクブランクス検査における高い欠陥検出感度と欠陥座標精度を実現しました。

「EUV ペリクル異物検査装置　PELMISシリーズ」

　「PELMIS」シリーズは、近年のEUV市場の拡大に伴い、検査需要が高まっているEUVマスクに取り付けられたEUVペリクルに付着した異物を高精度に検査し、さらにその異物の付着場所の表裏自動判別を実現しました。パターン面およびパターン外周部の異物検査にも対応しており、幅広い用途でご使用いただける装置です。

「SiCウェハ欠陥検査/レビュー装置　SICA108シリーズ」

　「SICA108」は、従来機の「SICA88」から検査光学系を刷新し、スループットの高速化、SiCウェハの品質把握とコストオブオーナーシップの改善を実現しました。また、当社独自のディープラーニング技術を応用した高精度の欠陥分類・判定機能を備え、デバイス不良の原因となる欠陥の早期発見および解析も可能な装置です。

「IR コンフォーカルマイクロスコープ　OPTELICS IR」

　「OPTELICS IR」は、高輝度な赤外線（以下、IR）照明によるコンフォーカル光学系を搭載し、非破壊・非接触での高解像度IR観察と高精度な測定を実現しました。近年、急速な発展を遂げているアドバンスドパッケージング市場において、アライメントズレ測定、ボイド検査や接着剥がれの観察など研究開発やプロセス改善の用途に最適な装置です。

「電気化学反応可視化コンフォーカルシステム ECCS B520」

　近年、全固体電池の研究が盛んに行われ、特に硫化物系全固体電池においては高い拘束圧が求められています。「ECCS B520」は、これまで実現が難しかったメガパスカル級の圧力を観察対象に均一にかけつつ、Operando観察・計測を可能にしました。

　当連結会計年度の研究開発費の総額は、11,677百万円であります。

　なお、当社グループの事業は、検査・測定機器の設計、製造、販売を行う単一のセグメントであるため、セグメントごとの記載は省略しております。